高效級ᩚᩚᩚᩚᩚᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ⁤⁤⁤⁤ᩚ𒀱ᩚᩚᩚ(ji)裸(luo)鉆成長的加(jia)工是主要(yao)包括電(dian)學氣相色譜形成沉(chen)淀（CVD）和(he)微波(bo)加(jia)熱等正離子體CVD（MPCVD）枝(zhi)術，另CVD和(he)MPCVD加(jia)工還要(yao)用于(yu)在裸(luo)鉆之(zhi)外的基本材料安于(yu)現狀行(xing)裸(luo)鉆形成沉(chen)淀，這為大(da)量產業產生了枝(zhi)術上的的進(jin)步，如(ru)光電(dian)器(qi)件、核算機科學的和(he)機器(qi)生產銷售。

在(zai)選取CVD和(he)(he)MPCVD生(sheng)產(chan)技術設(she)備(bei)實行裸(luo)鉆2生(sheng)長(chang)整(zheng)個(ge)過程(cheng)中，必須 嚴格規(gui)范調和(he)(he)管(guan)理(li)CVD生(sheng)產(chan)技術設(she)備(bei)的(de)(de)(de)(de)熱(re)度、進(jin)(jin)(jin)口(kou)(kou)(kou)機(ji)械泵(beng)(beng)壓(ya)為(wei)差(cha)隨和(he)(he)體成份(fen)表，這3個(ge)自(zi)變(bian)量(liang)名中的(de)(de)(de)(de)不管(guan)什么一作用或起伏較大都(dou)是作用裸(luo)鉆2的(de)(de)(de)(de)生(sheng)長(chang)流速(su)、色(se)度和(he)(he)顏色(se)搭(da)配。這3個(ge)自(zi)變(bian)量(liang)名在(zai)實際的(de)(de)(de)(de)生(sheng)產(chan)技術設(she)備(bei)中別(bie)是指了熱(re)度、進(jin)(jin)(jin)口(kou)(kou)(kou)機(ji)械泵(beng)(beng)壓(ya)為(wei)差(cha)和(he)(he)本(ben)(ben)職運(yun)作空(kong)氣(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)的(de)(de)(de)(de)品質國內(nei)視(shi)頻流量(liang)，即在(zai)CVD生(sheng)產(chan)技術設(she)備(bei)中似的(de)(de)(de)(de)是在(zai)進(jin)(jin)(jin)氣(qi)(qi)口(kou)(kou)(kou)處選取空(kong)氣(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)品質國內(nei)視(sh⛦i)頻流量(liang)管(guan)理(li)器(qi)管(guan)理(li)氡氣(qi)(qi)和(he)(he)二氧化氮以高于操縱(zong)在(zai)的(de)(de)(de)(de)相(xiang)溶空(kong)氣(qi)(qi)成份(fen)表，經(jing)(jing)過熱(re)度傳探測器(qi)器(qi)和(he)(he)供暖系統來(lai)調和(he)(he)管(guan)理(li)本(ben)(ben)職運(yun)作腔酒店(dian)內(nei)的(de)(de)(de)(de)熱(re)度，然后在(zai)吸氣(qi)(qi)口(kou)(kou)(kou)處經(jing)(jing)過進(jin)(jin)(jin)口(kou)(kou)(kou)機(ji)械泵(beng)(beng)計(ji)和(he)(he)電動式(shi)電動閥門來(lai)調和(he)(he)管(guan)理(li)本(ben)(ben)職運(yun)作腔酒店(dian)內(nei)的(de)(de)(de)(de)進(jin)(jin)(jin)口(kou)(kou)(kou)機(ji)械泵(beng)(beng)壓(ya)為(wei)差(cha)。

 針(zhen)對(dui💎)以(yi)上氣體(ti)質(zhi)量流量的控制(zhi)環節，格(ge)里爾斯GRYLLS開發了(le)CVD（MPCVD)金(jin)剛石行(xing)業專(zhuan)用特氣氣路盤，該產品設備以pu氣管閥，異向閥，EP級彎頭尺寸，微米換算級過濾程序器，高質量精準流量掌握器MFC等零機件達成對幾種工藝設備其他氣體的明確用戶流量把控好。

  進行數年研究開發和經歷的基性巖，格里爾斯GRYLLS質理用戶電磁流量計的氣路盤，還具有高密封膠性，高精確度，集成系統程度高等優點有哪些，好產品成熟完善安全穩定都已經 在許多CVD(MPCVD）生產企業的達到運用，為用戶的賬戶削減了研發團隊、按裝、驗正時期，很大程度上減小了用戶的賬戶的總體布局生產費用。

更多氣路盤整體解決方案請質詢GRYLLS。